Διαδικασία προετοιμασίας πυρήνα
Οι στόχοι τιτανίου είναι υλικά επίστρωσης πυρήνων που έχουν σχεδιαστεί για φυσική εναπόθεση ατμών (PVD) και ψεκασμό με μαγνητρόν, τα οποία είναι ευρέως κατάλληλα για προετοιμασία επίστρωσης υψηλού επιπέδου, παραγωγή τσιπ ημιαγωγών και ηλεκτρονικών εξαρτημάτων ακριβείας και είναι απαραίτητα βασικά βασικά υλικά σε προηγμένη κατασκευή, ημιαγωγούς, ιατρικούς και άλλους τομείς.
Επιλογή πρώτης ύλης
Οι στόχοι τιτανίου είναι κατασκευασμένοι από 99,99% υψηλής-καθαρότητας μπλοκ τιτανίου ως πρώτες ύλες και η επιφάνεια ελέγχεται αυστηρά χωρίς οξείδωση, ακαθαρσίες, ρωγμές και άλλα ελαττώματα, διασφαλίζοντας ομοιόμορφα πρότυπα υλικού και καθαρότητας και διασφαλίζοντας την ποιότητα επίστρωσης και εκτόξευσης από την πηγή.
Τήξη υπό κενό
Ο στόχος τιτανίου υιοθετεί έναν κλίβανο τήξης τόξου κενού, που θερμαίνεται σε πάνω από 1668 βαθμούς (σημείο τήξης τιτανίου) για να λιώσει πλήρως την πρώτη ύλη και η όλη διαδικασία περιβάλλοντος υψηλού κενού απομονώνει ακαθαρσίες αερίων. Σε ειδικά σενάρια, μπορεί να λειτουργήσει σε προστατευτική ατμόσφαιρα όπως το αέριο αργό για την πρόληψη της οξείδωσης του υλικού.
Σφυρηλάτηση ακριβείας
Αφού ο στόχος τιτανίου χυτευθεί και σχηματιστεί από τηγμένο υγρό τιτανίου, σφυρηλατείται ομοιόμορφα και πιέζεται από μια υδραυλική πρέσα, με όλη τη διαδικασία ελέγχου θερμοκρασίας και διατήρησης θερμότητας, για να εξασφαλιστεί η ολκιμότητα και η δομική πυκνότητα του υλικού.
Τραχύ καλούπωμα
Οι στόχοι τιτανίου υποβάλλονται σε μηχανική κατεργασία μέσω τόρνων CNC και μηχανών φρεζαρίσματος για να διαμορφωθούν με ακρίβεια στο μέγεθος και το σχήμα στόχου για να ανταποκριθούν στις απαιτήσεις προσαρμογής του εξοπλισμού.
Εντατικοποίηση θερμικής επεξεργασίας
Οι στόχοι τιτανίου υποβλήθηκαν σε θερμική επεξεργασία, όπως διάλυμα διαλύματος και ανόπτηση στους 800–1000 βαθμούς για να βελτιστοποιηθεί η δομή της μικροδομής και να βελτιωθεί σημαντικά η αντοχή και η σκληρότητα του στόχου.
Φινίρισμα επιφάνειας
Ο στόχος τιτανίου επεξεργάζεται με λείανση πολλαπλών-σταδίων και λεπτό γυάλισμα και το φινίρισμα και η επιπεδότητα της επιφάνειας πληρούν τα πρότυπα για να διασφαλιστεί ότι το φιλμ εκτόξευσης είναι ομοιόμορφο και σταθερό.
Βασικά χαρακτηριστικά του προϊόντος
Εξαιρετική απόδοση: υψηλή πυκνότητα, υψηλή αντοχή στη θερμότητα, σταθερή δομή, μπορεί να προσαρμοστεί σε πολύπλοκες και σοβαρές συνθήκες επίστρωσης και εκτόξευσης.
Χημική σταθερότητα: ισχυρή αντοχή στη διάβρωση, καλή χημική αδράνεια, μεγάλη διάρκεια ζωής, καλή συνοχή επίστρωσης.
Εξαιρετική αξία: Παρόλο που το κόστος πρώτης ύλης και επεξεργασίας είναι υψηλό, η συνολική απόδοση είναι κορυφαία και είναι ένα αναντικατάστατο κλειδί αναλώσιμο στον τομέα της υψηλής- τεχνολογίας.
Κύρια πεδία εφαρμογής
Πεδίο ημιαγωγών
Μία από τις βασικές πρώτες ύλες για την κατασκευή τσιπ, χρησιμοποιείται για διαδικασίες επίστρωσης και επεξεργασίας βασικών εξαρτημάτων όπως τρανζίστορ και ολοκληρωμένα κυκλώματα.
Βιομηχανικός τομέας
Χρησιμοποιείται σε-υψηλού επιπέδου λειτουργικές επιστρώσεις, αντιδιαβρωτικές και ανθεκτικές στη φθορά-επικαλύψεις, καλύψεις αυτοκινήτων, κατασκευή ακριβείας, εξοπλισμό υψηλών-προϊόντων και άλλες βιομηχανίες.
Ιατρικός τομέας
Έχει εξαιρετική βιοσυμβατότητα και μπορεί να χρησιμοποιηθεί για επιφανειακή επίστρωση και επεξεργασία καλουπώματος ιατρικών συσκευών όπως τεχνητές αρθρώσεις και οδοντικά εμφυτεύματα.
Εξατομίκευση και εξυπηρέτηση
Υποστηρίζει προσαρμοσμένη προμήθεια σύμφωνα με τις ανάγκες των πελατών και μπορεί να παρέχει γρήγορα ακριβείς προσφορές και αποτελεσματική παράδοση σύμφωνα με λεπτομερείς απαιτήσεις, όπως καθαρότητα, μέγεθος, ανοχή και τεχνικές παραμέτρους για την κάλυψη των αναγκών Ε&Α, μικρής-παρτίδας δοκιμαστικής παραγωγής και μεγάλης-μαζικής παραγωγής.
Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχος τιτανίου, Κίνα κατασκευαστές στόχου τιτανίου, προμηθευτές, εργοστάσιο
